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应用于电子、封装、周详元器件、新材料等产物的电镀、电铸工艺处置惩罚。

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镀层匀称性及镀层质量要求较下的电镀、电铸处置惩罚工艺。


二、应用领域

应用于电子、封装、周详元器件、新材料等产物的电镀、电铸工艺处置惩罚。


三、装备特性

1、具有自主知识产权,得到国度发明专利;

2、扭转体式格局多样,可实现公转、公转+自转,转速、转向可调;

3、传动体式格局多样可实现上传动、下传动,亦可凭据用户要求定制;

4、大幅改进电力场、温度场、浓度场的匀称性,进步镀层质量及匀称性, COV值较传统挂镀进步5-10倍。


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